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            圖騰柱無橋PFC中混合碳化硅分立器件(Hybrid IGBT)的應(yīng)用

             
            單價: 面議
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            所在地: 廣東省 深圳市
            有效期至: 長期有效
            最后更新: 2022-06-08 19:21
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            公司基本資料信息
            詳細說明
             圖騰柱無橋PFC中混合碳化硅分立器件(Hybrid IGBT)的應(yīng)用
             
            現(xiàn)代尖端電力電子設(shè)備性能升級需要提升系統(tǒng)功率密度、使用更高的主開關(guān)頻率。而現(xiàn)有硅基IGBT配合硅基FRD性能已無法完全滿足要求,需要高性能與性價比兼具的主開關(guān)器件。為此,基本半導(dǎo)體推出的混合碳化硅分立器件(Hybrid SiC Discrete Devices)將新型場截止IGBT技術(shù)和碳化硅肖特基二極管技術(shù)相結(jié)合,為硬開關(guān)拓撲打造了一個兼顧品質(zhì)和性價比的完美方案。
             
            該器件將傳統(tǒng)的硅基IGBT和碳化硅肖特基二極管合封,在部分應(yīng)用中可以替代傳統(tǒng)的IGBT (硅基IGBT與硅基快恢復(fù)二極管合封),使得IGBT的開關(guān)損耗大幅降低。這款混合碳化硅分立器件的性能介于超結(jié)MOSFET和高性能的碳化硅 MOSFET之間,在某些場合性價比更優(yōu)于超結(jié)MOSFET和碳化硅MOSFET,可幫助客戶在性能和成本之間取得更好的平衡,具有重要的應(yīng)用價值,特別適用于對功率密度提升有需求,同時更強調(diào)性價比的電源應(yīng)用領(lǐng)域,如車載電源充電機(OBC)、通信電源、高頻DC-DC電源轉(zhuǎn)換器、UPS等。
             
            PFC技術(shù)趨勢
            在電源研發(fā)領(lǐng)域,尤其是在汽車OBC和通信電源應(yīng)用領(lǐng)域,由于PFC拓撲的設(shè)計可直接影響到電力轉(zhuǎn)換系統(tǒng)效率的高低,使得這一關(guān)鍵因素在近年來變得愈發(fā)重要。為進一步提高電源的工作效率,科研人員和工程師們已經(jīng)研究出多種不同的PFC拓撲結(jié)構(gòu),如傳統(tǒng)的PFC拓撲、普通無橋PFC、雙升壓無橋PFC,圖騰柱無橋PFC等,并已成功大范圍應(yīng)用在設(shè)計過程中。
             
            表1  對比四種常見的PFC拓撲電路
             
            對比上述四種常見的PFC拓撲結(jié)構(gòu),圖騰柱無橋PFC拓撲的器件用量僅為6,同時還具有導(dǎo)通損耗、效率等優(yōu)點,因此在車載OBC及通信電源等高效應(yīng)用方面已有量產(chǎn)項目采用圖騰柱無橋PFC取代傳統(tǒng)的PFC或交錯并聯(lián)PFC。
            因此本文除闡述圖騰柱無橋PFC的優(yōu)勢和工作原理之外,將重點介紹圖騰柱無橋PFC的功率半導(dǎo)體器件選型,并給出性能和成本平衡的混合碳化硅分立器件解決方案。
             
            02 圖騰柱無橋PFC拓撲分析
             
            正半周期,T2開通,電感儲能 
            正半周期,T2關(guān)斷,電感釋能
             
            在正半周期(VAC>0)的時候,T2為主開關(guān)管。
            當T2開通時,電感L儲能,電流回路如圖5所示;
            當T2關(guān)斷時,T1的反并聯(lián)二極管D1開通,電感L釋放能量,電流回路如圖6所示;
             
            負半周期,T1開通,電感儲能
            負半周期,T1關(guān)斷,電感釋能
             
            在負半周期(VAC<0)的時候,T1為主開關(guān)管。
             
            當T1開通時,電感L儲能,電流回路如圖7所示;
             
            當T1關(guān)斷時,T2的反并聯(lián)二極管D2開通,電感L釋放能量,電流回路如圖8所示;
             
            03
            圖騰柱無橋PFC功率器件選型
             
            基于上述第2點的圖騰柱無橋PFC拓撲及其原理分析,上圖中D3和D4各自工作在交流輸入的工頻正半周期和負半周期,導(dǎo)通時間較長,因此建議選擇低速和低導(dǎo)通壓降的硅整流二極管。為進一步提高效率,可以考慮用硅 MOSFET替代(同步整流模式),從而降低整流回路的導(dǎo)通損耗。
            如果圖騰柱無橋PFC工作處于電流斷續(xù)模式(DCM)或臨界導(dǎo)通模式(CrM)時,T1和T2可以選擇純硅 IGBT (IGBT+FRD)或者超結(jié)MOSFET作為主開關(guān)管。但是如果圖騰柱無橋PFC工作處于電流連續(xù)導(dǎo)通模式(CCM)時,T1和T2如果仍選擇純硅 IGBT (IGBT+FRD)或者超結(jié)MOSFET作為主開關(guān)管的話,由于IGBT上反并聯(lián)的二極管及超結(jié)MOSFET自身的體二極管都是雙極型二極管,在關(guān)斷時會產(chǎn)生反向恢復(fù)電流Irr,會明顯增大對管開關(guān)管的開通損耗,降低整個系統(tǒng)的效率。
            可見,在圖騰柱無橋PFC中,現(xiàn)有硅基IGBT配合硅基FRD或超結(jié)MOSFET作為主開關(guān)管的傳統(tǒng)IGBT解決方案已很難再進一步提升電源效率。針對上述情況,解決方案有以下兩種。
             
            方案一:將IGBT單管上反并聯(lián)的快速恢復(fù)二極管換成基本半導(dǎo)體的“零反向恢復(fù)”的碳化硅肖特基二極管(碳化硅 SBD),這種組合起來封裝的器件,稱之為混合碳化硅分立器件(Hybrid SiC Discrete Devices)?;景雽?dǎo)體的碳化硅肖特基二極管采用的主要是碳化硅 JBS工藝技術(shù),與硅 FRD對比的主要優(yōu)點有:
             二極管反向恢復(fù)電流Irr和開關(guān)管T2開關(guān)波形
             
            (1)碳化硅肖特基二極管具有“零反向恢復(fù)” 的特點,可以顯著減少開關(guān)管的開通損耗;
            (2)“零反向恢復(fù)”意味著反向恢復(fù)電流跟雜散電感產(chǎn)生的諧振幾乎為零,可顯著改善系統(tǒng)EMI;
             
            (3)碳化硅肖特基二極管 的QC更小,PFC開關(guān)頻率提升時,使用碳化硅肖特基二極管可以顯著提升整機效率。
            方案二:主開關(guān)管選擇的碳化硅MOSFET器件,碳化硅MOSFET相對于IGBT或超結(jié)MOSFET有更低的開關(guān)損耗。碳化硅MOSFET的體二極管雖然也存在反向恢復(fù)行為,但是其反向恢復(fù)電流相對IGBT或超結(jié)MOSFET要小很多。因此,當開關(guān)頻率提高時,碳化硅MOSFET的優(yōu)勢將更為明顯,系統(tǒng)的效率也會更高。當客戶選擇碳化硅MOSFET為主開關(guān)管后,通常也會愿意多花額外的成本將工頻整流二極管D3和D4換成普通的低導(dǎo)通電阻(Rdson)的硅-MOSFET [B1] ,降低整流器件的導(dǎo)通損耗。
             
             圖騰柱無橋PFC 碳化硅 MOSFET (T1和T2) + 硅 MOSFET (T3和T4) 方案
             
             方案二的效率是的,相對地,客戶端付出的成本也是的。
            綜合上述各個方案的特點和分析,為滿足不同的市場需求,基本半導(dǎo)體為圖騰柱無橋PFC這一硬開關(guān)拓撲設(shè)計了能同時兼顧效率與性價比的混合碳化硅分立器件,同時也提供了更高效率的全碳化硅 MOSFET方案。
             
            這里采用雙脈沖測試方法對圖騰柱無橋PFC中混合碳化硅分立器件和純硅 IGBT進行對比測試,以評估續(xù)流二極管(硅快恢復(fù)二極管或碳化硅肖特基二極管)對主開關(guān)管損耗的影響,并同時檢測續(xù)流二極管的恢復(fù)行為。
             
            測試原理圖
             
            測試對象:
            BG50N065HF(BASiC, IGBT+FRD),BGH50N065HF(BASiC, IGBT+碳化硅肖特基二極管)
            測試條件:
             
            Vbus=400V, Rgon=Rgoff=10Ω, VGE=15V/0V, L=200uH 
            傳統(tǒng)IGBT及混合碳化硅分立器件開關(guān)損耗參數(shù)對比
             
            如圖12所示,碳化硅肖特基二極管對IGBT的損耗和二極管反向恢復(fù)損耗的影響非常大。使用碳化硅肖特基二極管后,可以顯著降低IGBT的開通損耗和總損耗,基本半導(dǎo)體碳化硅混合分立器件的開通損耗相對于Si IGBT降低55%,總損耗降低33%。
            另外,混合碳化硅分立器件的反并聯(lián)二極管由于其碳化硅肖特基二極管特性,基本上不存在反向恢復(fù)電流和反向恢復(fù)損耗。相對傳統(tǒng)IGBT方案,在高頻和效率提升上,混合碳化硅分立器件的技術(shù)優(yōu)勢更加明顯。
             
             傳統(tǒng)IGBT及混合碳化硅分立器件反并聯(lián)二極管的特性參數(shù)對比
            混合碳化硅分立器件的反向恢復(fù)時間Trr,反向恢復(fù)電流Irr和反向恢復(fù)損耗Err明顯降低。
             
            05總結(jié)
            基本半導(dǎo)體主要推出了650V 50A和650V 75A的混合碳化硅分立器件,并同時推出了TO-247-3和TO-247-4封裝(如上圖),使得客戶在不需要更改電源電路和PCB的基礎(chǔ)上,直接進行Pin To Pin替換驗證測試及使用,在同樣的設(shè)計系統(tǒng)中,客戶可以在最短時間內(nèi)提升整機效率,降低散熱器設(shè)計要求和成本??蛻粢部梢蕴岣咧鏖_關(guān)管的開關(guān)頻率,選擇體積更小的電感進行設(shè)計,以此減少電流諧波對電網(wǎng)的污染。
             
             
            BASiC基本半導(dǎo)體650V/1200V Hybrid IGBT 單管IGBT TO274-3和TO247-4 具備高速IGBT技術(shù)和碳化硅肖特基二極管的主要優(yōu)點,具備出色的開關(guān)速度和更低的開關(guān)損耗,TO-247 4 引腳封裝具有一個額外的開爾文發(fā)射極連接。此 4 引腳也被稱為開爾文發(fā)射極端子,繞過柵極控制回路上的發(fā)射極引線電感,從而提高 IGBT或者碳化硅MOSFET 的開關(guān)速度并降低開關(guān)能量。主要規(guī)格有BGH50N65HF1(IKW50N65RH5國產(chǎn)替代,AIKW50N65RF5國產(chǎn)替代,IKW50N65SS5國產(chǎn)替代),BGH50N65ZF1 (IKZA50N65RH5,IKZA50N65SS5國產(chǎn)替代),BGH75N65HF1(IKW75N65RH5,IKW75N65SS5國產(chǎn)替代),BGH75N65ZF1(IKZA75N65RH5,IKZA75N65SS5國產(chǎn)替代),BGH40N120HF(IKW40N120H3,IKW40N120CS6,IKW40N120CS7國產(chǎn)替代)特別適用于 DC-DC 功率變換器和PFC電路。其常見應(yīng)用包括:車載充電機(OBC)、ESS儲能系統(tǒng)、PV inverter光伏逆變器、UPS不間斷電源系統(tǒng) (UPS),以及服務(wù)器和電信用開關(guān)電源 (SMPS) ,基本半導(dǎo)體混合碳化硅分立器件將新型場截止IGBT技術(shù)和碳化硅肖特基二極管技術(shù)相結(jié)合,為硬開關(guān)拓撲打造了一個兼顧品質(zhì)和性價比的方案。該器件將傳統(tǒng)的硅基IGBT和碳化硅肖特基二極管合封,在部分應(yīng)用中可以替代傳統(tǒng)的IGBT (硅基IGBT與硅基快恢復(fù)二極管合封),使IGBT的開關(guān)損耗大幅降低,適用于車載電源充電機(OBC)、通信電源、高頻DC-DC電源轉(zhuǎn)換器、儲能等領(lǐng)域。
             
            BASiC基本半導(dǎo)體混合IGBT Hybrid Discrete搭載了為高頻開關(guān)優(yōu)化的IGBT晶圓以及650VBASiC基本SiC二極管,基本SiC二極管極小Qrr,有效降低對管IGBT開通損耗,且自身反向恢復(fù)損耗Erec也明顯降低,IGBT開通損耗隨溫度的影響很小,降低EMI,廣泛應(yīng)用于OBC車載充電器,光伏儲能逆變器,充電樁電源模塊,移動儲能逆變器功率因數(shù)校正(PFC)、DC-DC(直流-直流)和DC-AC(直流-交流)等。
             
            BASiC基本半導(dǎo)體碳化硅MOSFET B1M160120HC,B1M080120HC,B1M080120HK,B1M032120HC,B1M032120HK具備開關(guān)中的小柵極電荷和器件電容、反并聯(lián)二極管無反向恢復(fù)損耗、與溫度無關(guān)的低開關(guān)損耗,以及無閾值通態(tài)特性等。非常適合硬開關(guān)和諧振開關(guān)拓撲,如LLC和ZVS,廣泛應(yīng)用于OBC車載充電器,光伏儲能逆變器,充電樁電源模塊等,可以像IGBT或MOSFET一樣使用易于使用的驅(qū)動器進行驅(qū)動。由于能在高開關(guān)頻率下帶來高效率,從而可以減小系統(tǒng)尺寸、增大功率密度,并確保高可靠性,延長使用壽命。
             
            光伏逆變器升壓SiC碳化硅二極管B2D10120H1,B2D20120HC1,B2D20120H1,B2D30120HC1,B2D30120H1,B2D40120H1,B2D20065HC1,B2D20065H1,B2D30065H,B2D40065H,B2D02120E1,光伏逆變器SiC MOSFET,IGBT Hybrid Discrete,混合三電平SiC-IGBT模塊,IGBT單管,混合IGBT單管,SiC MOSFET,SiC Power MOSFET,SiC MOSFET模塊,SOT-227碳化硅肖特基二極管模塊,混合SiC-IGBT模塊,BASiC基本混合混合SiC-IGBT單管,分立碳化硅MOSFET,TO263-7碳化硅MOSFET,碳化硅(SiC)MOSFET,儲能逆變器SiC MOSFET,光伏逆變器SiC MOSFET,三電平IGBT模塊,光儲一體機混合IGBT器件
             
            BASiC基本半導(dǎo)體第三代碳化硅肖特基二極管在沿用6英寸晶圓工藝基礎(chǔ)上,實現(xiàn)了更高的電流密度、更小的元胞尺寸、更低的正向?qū)▔航?。BASiC基本半導(dǎo)體第三代碳化硅肖特基二極管繼承了一代和二代產(chǎn)品的優(yōu)點,采用JBS結(jié)構(gòu),優(yōu)化了N-外延層的摻雜濃度,減薄N+襯底層,使得二極管具有更低的正向?qū)▔航礦F和結(jié)電荷QC,可以降低應(yīng)用端的導(dǎo)通損耗和開關(guān)損耗。
             
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